笔下文学

第431章 功成不必在我（第1页）

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“你觉得我这份报告是怎么来的？”老头反笑，“我团队里有日本人，他的前辈就参与过日本光刻机研发，不过具体是谁...还容许老夫保密。”

陈学兵听到这话，暗笑一声。

还保密。

他拿出手机，打开了一条短信。

“尼康光刻机事业部05年爆发干式优化派和浸没式转向派路线之争，辞职了22个人，辞职的总工程师叫木村淳一。”

“ASML日本首席技术顾问田中文雄推动浸没式技术在日落地失败，今年退休。”

“佳能半导体设备研发总监小林启二因ArF研发延迟担责降职，后赴韩任教。”

陈学兵说到这，抬头似笑非笑：

“日本具备前沿光刻机技术指导价值的就这三拨人，总共37个人，你说

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