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第431章 功成不必在我(第1页)

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“你觉得我这份报告是怎么来的?”老头反笑,“我团队里有日本人,他的前辈就参与过日本光刻机研发,不过具体是谁...还容许老夫保密。”

陈学兵听到这话,暗笑一声。

还保密。

他拿出手机,打开了一条短信。

“尼康光刻机事业部05年爆发干式优化派和浸没式转向派路线之争,辞职了22个人,辞职的总工程师叫木村淳一。”

“ASML日本首席技术顾问田中文雄推动浸没式技术在日落地失败,今年退休。”

“佳能半导体设备研发总监小林启二因ArF研发延迟担责降职,后赴韩任教。”

陈学兵说到这,抬头似笑非笑:

“日本具备前沿光刻机技术指导价值的就这三拨人,总共37个人,你说

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